サイマーフェザーテクノロジーHelios 5 DualBeamは、Helios 5製品シリーズの高性能イメージングと分析性能を備えている。挑戦的なサンプルであっても、幅広いFIB-SEMの使用に対する材料科学研究者やエンジニアのニーズを満たすように設計されています。

Helios 5 DualBeamは高分解能イメージングの基準を再定義した：材料コントラスト、迅速、簡単、正確な高品質サンプルの調製、S/TEMイメージングと原子プローブトモグラフィー（APT）及びサブ表面と3 Dキャラクタリゼーションに使用する。Helios DualBeamシリーズの長年にわたるパフォーマンスに基づいて、Helios 5 DualBeamは改善された最適化を行い、これらはすべてシステムが手動または自動ワークフローの実行状態にあることを保証することを目的としています。

半導体業界の技術パラメータ：

材料科学業界の技術パラメータ：

より使いやすい：

Helios 5はすべての経験レベルのユーザーにとって使いやすいDualBeamシステムです。オペレータトレーニングは数ヶ月から数日に短縮でき、システム設計により、すべてのオペレータがさまざまなアプリケーションで一貫性のある繰り返し可能な結果を得るのに役立ちます。

生産性の向上：

Helios 5とAutotEM 5ソフトウェアの先進的な自動化機能、信頼性と安定性は、無人または夜間の操作を可能にし、サンプル調製フラックスを大幅に向上させる。

改善時間と結果：

Helios 5 DualBeamは、微細画像調整機能FLASH（フラッシュ調整）技術を導入した。FLASHテクノロジーを使用すると、ユーザインタフェースで簡単なマウス操作を行うだけで、システムは非点収差、レンズの中央、画像のフォーカスを「リアルタイム」で行うことができます。自動調整により、スループット、データ品質を大幅に向上させ、高品質画像の収集を簡略化することができます。平均的に言えば、FLASH技術は最適化された画像を得るために必要な時間を10倍短縮することができる。